以片狀云母作為微反應(yīng)器制備了納米Sb203／云母復(fù)合物，并用XRD、TEM 進行了表征．研究了表面活性劑對納米Sb203顆粒 納米Sb203／云母復(fù)合物的粒子性能及粒度分布的影響，并對二者進行了比較．結(jié)果表明：納米Sb203被十六烷基三甲基溴化銨處理后，在云母層間均勻生長，形成的納米Sb203分散性好，粒度分布窄．平均粒徑約為5nm，比不加云母制備的納米Sb203小30nm．
發(fā)布日期：2011-11-07 瀏覽次數(shù)：580
以片狀云母作為微反應(yīng)器制備了納米Sb203／云母復(fù)合物，并用XRD、TEM 進行了表征．研究了表面活性劑對納米Sb203顆粒 納米Sb203／云母復(fù)合物的粒子性能及粒度分布的影響，并對二者進行了比較．結(jié)果表明：納米Sb203被十六烷基三甲基溴化銨處理后，在云母層間均勻生長，形成的納米Sb203分散性好，粒度分布窄．平均粒徑約為5nm，比不加云母制備的納米Sb203小30nm．
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