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陰陽混合表面活性劑為模板劑制備MCM-48中孔分子篩的方法.pdf

放大字體  縮小字體 發(fā)布日期:2011-12-16  瀏覽次數(shù):793
核心提示:陰陽混合表面活性劑為模板劑制備MCM-48中孔分子篩的方法.pdf
 本發(fā)明以十六烷基三甲基溴化銨通常寫為CTMAB為陽離子表面活性劑,烷基羧酸鈉鹽通常寫為ACS為陰離子表面活性劑,兩者的混合為模板劑制備MCM-48中孔分子篩。現(xiàn)有的僅用陽離子表面活性劑制備中孔分子篩的方法條件苛刻,污染大。用CTMAB和ACS混合表面活性劑為模板劑制備MCM-48中孔分子篩,調(diào)節(jié)兩者摩爾比值和CTMAB與硅的摩爾比值,可得到性能良好的MCM-48中孔分子篩,本方法操作簡單,降低成本,減少污染。

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