納米二氧化硅拋光液 氧化硅拋光漿料

納米二氧化硅拋光液 氧化硅拋光漿料

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納米二氧化硅磨料拋光液由高純納米二氧化硅等多種復(fù)合材料配置而成，通過高科技術(shù)分散成納米顆粒，分散均勻的納米拋光液，具有高強(qiáng)度、高附著力、成膜性好、高滲透、高耐候性、高耐磨性等特點(diǎn)，是一種性能優(yōu)良的CM P技術(shù)用的拋光材料.

技術(shù)指標(biāo)：

納米二氧化硅拋光液 VK-SP30W 白色乳液 30nm 20%含量 水

納米二氧化硅拋光液 VK-SP50W 白色乳液 50nm 20%含量 水

納米二氧化硅拋光液 VK-SP100W 白色乳液 100nm 20%含量 水

納米二氧化磨料拋光液應(yīng)用特性：

1、拋光速平坦度加工，本品拋光是利用SiO2等材料的均勻納米粒子，不會(huì)對(duì)加工件造成物理損傷，率快，利用分散均勻大粒徑的膠體二氧化硅等粒子達(dá)到高速拋光的目的

2、高純度，拋光液不腐蝕設(shè)備，使用的安全性能高。

3、高達(dá)到高平坦化加工

4、有效有效減少拋光后的表面劃傷，降低拋光后的表面粗糙度。

應(yīng)用范圍：

1、可用于微晶玻璃的表面拋光加工中。

2、用于硅片的粗拋和精拋以及IC加工過程，適用于大規(guī)模集成電路多層化薄膜的平坦化加工。

3、用于晶圓的后道ＣＭＰ清洗等半導(dǎo)體器件的加工過程、平面顯示器、多晶化模組、微電機(jī)系統(tǒng)、光導(dǎo)攝像管等的加工過程。

4、廣泛用于CMP化學(xué)機(jī)械拋光，如：硅片、化合物晶體、精密光學(xué)器件、硬盤盤片、寶石、大理石等納米級(jí)及亞納米級(jí)拋光加工。
5、本產(chǎn)品可以作為一種添加劑，也可應(yīng)用于水性高耐候石材保護(hù)液、水性膠粘劑與高耐候外墻涂料等領(lǐng)域。

納米二氧化硅磨料拋光液使用注意事項(xiàng)：

1、 本品放置時(shí)間長后，若有少量沉淀屬于正常現(xiàn)象，用攪拌機(jī)攪拌均勻不影響使用。

2、 如有產(chǎn)品變稠現(xiàn)象，是二氧化硅本身的特性，可以按照與水1:1的比例稀釋，攪拌均勻后再使用。

3、 密閉，干燥陰涼處儲(chǔ)存，避免太陽直射。

包  裝：25kg/桶